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  Message  : J’ai pensé que vous seriez peut-être intéressé par cet ouvrage au http://www.worldcat.org/oclc/49844130 Titre: Advances in low temperature rf plasmas : basis for process design Auteur: T Makabe Éditeur: Amsterdam ; Boston : Elsevier, 2002. ISBN/ISSN: 0444510958 9780444510952 OCLC:49844130

  
  

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Sujets

• Low temperature plasmas -- Industrial applications.
• Hochfrequenzplasma.
• Tieftemperatur.

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Advances in low temperature rf plasmas : basis for process design

Auteur :	T Makabe
Éditeur :	Amsterdam ; Boston : Elsevier, 2002.
Édition/format :	Livre : Anglais : 1st edVoir toutes les éditions et les formats
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