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Plasma chemistry and plasma processing

Éditeur: Dordrecht : Kluwer Academic Publisher, [2000]-
Édition/format:   Périodique ou revue électroniques : AnglaisVoir toutes les éditions et tous les formats
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Détails

Genre/forme: Revistes electròniques
Type d’ouvrage: Ressource Internet
Type de document: Ressource Internet, Périodique / revue / journal
ISSN:0272-4324, 1572-8986
Numéro OCLC: 807210150
Notes: Descripció feta a partir de: Vol. 20, no. 1 (March, 2000), el 25 setembre 2001.
Autres titres: SpringerLink e-journals.

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