přejít na obsah
A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment Náhled dokumentu
ZavřítNáhled dokumentu
Probíhá kontrola...

A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment

Autor T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
Vydavatel: Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979.
Edice: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Vydání/formát:   Kniha : EnglishZobrazit všechny vydání a formáty
Databáze:WorldCat
Hodnocení:

(ještě nehodnoceno) 0 zobrazit recenze - Buďte první.

Předmětová hesla:
Více podobných

 

Vyhledat exemplář v knihovně

&AllPage.SpinnerRetrieving; Vyhledávání knihoven, které vlastní tento dokument...

Detaily

Doplňující formát: Online version:
Russell, T.J. (Thomas James), 1943-
Production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment.
Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979
(OCoLC)633088701
Typ dokumentu: Book
Všichni autoři/tvůrci: T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
OCLC číslo: 4591321
Popis: iii, 28 pages : illustrations ; 26 cm.
Název edice: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Odpovědnost: T.J. Russell, D.A. Maxwell ; sponsored by the National Bureau of Standards and Advanced Research Projects Agency.

Recenze

Recenze vložené uživatelem
Nahrávání recenzí GoodReads...
Přebírání recenzí DOGO books...

Štítky

Buďte první.

Podobné dokumenty

Potvrdit tento požadavek

Tento dokument jste si již vyžádali. Prosím vyberte Ok pokud chcete přesto v žádance pokračovat.

Propojená data


<http://www.worldcat.org/oclc/4591321>
library:oclcnum"4591321"
library:placeOfPublication
library:placeOfPublication
rdf:typeschema:Book
schema:about
schema:about
schema:about
schema:about
schema:contributor
<http://viaf.org/viaf/145989280>
rdf:typeschema:Organization
schema:name"United States. National Bureau of Standards."
schema:contributor
schema:contributor
<http://viaf.org/viaf/154230733>
rdf:typeschema:Organization
schema:name"United States. Advanced Research Projects Agency."
schema:creator
schema:datePublished"1979"
schema:exampleOfWork<http://worldcat.org/entity/work/id/1953683205>
schema:inLanguage"en"
schema:isPartOf
schema:isPartOf
schema:name"A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment"@en
schema:publication
schema:publisher
schema:publisher
wdrs:describedby

Content-negotiable representations

Zavřít okno

Prosím přihlaste se do WorldCat 

Nemáte účet? Můžete si jednoduše vytvořit bezplatný účet.