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A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment

Verfasser/in: T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
Verlag: Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979.
Serien: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Ausgabe/Format   Buch : EnglischAlle Ausgaben und Formate anzeigen
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Physisches Format Online version:
Russell, T.J. (Thomas James), 1943-
Production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment.
Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979
(OCoLC)633088701
Dokumenttyp: Buch
Alle Autoren: T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
OCLC-Nummer: 4591321
Beschreibung: iii, 28 pages : illustrations ; 26 cm.
Serientitel: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Verfasserangabe: T.J. Russell, D.A. Maxwell ; sponsored by the National Bureau of Standards and Advanced Research Projects Agency.

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