doorgaan naar inhoud
A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment Voorbeeldweergave van dit item
SluitenVoorbeeldweergave van dit item
Bezig met controle...

A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment

Auteur: T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
Uitgever: Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979.
Serie: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Editie/Formaat:   Boek : Engels
Database:WorldCat
Beoordeling:

(nog niet beoordeeld) 0 met beoordelingen - U bent de eerste

Onderwerpen
Meer in deze trant

 

Zoeken naar een in de bibliotheek beschikbaar exemplaar

&AllPage.SpinnerRetrieving; Bibliotheken met dit item worden gezocht…

Details

Aanvullende fysieke materiaalsoort: Online version:
Russell, T. J. (Thomas James), 1943-
Production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment.
Washington : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards : For sale by the Supt. of Docs., U.S. Govt. Print. Off., 1979
(OCoLC)633088701
Soort document: Boek
Alle auteurs / medewerkers: T J Russell; Dwight A Maxwell; United States. National Bureau of Standards.; United States. Advanced Research Projects Agency.
OCLC-nummer: 4591321
Beschrijving: iii, 28 p. : ill. ; 26 cm.
Serietitel: Semiconductor measurement technology.; NBS special publication, 400-51.
Verantwoordelijkheid: T.J. Russell, D.A. Maxwell ; sponsored by the National Bureau of Standards and Advanced Research Projects Agency.

Beoordelingen

Beoordelingen door gebruikers
Beoordelingen van GoodReads worden opgehaald...
Bezig met opvragen DOGObooks-reviews...

Tags

U bent de eerste.
Bevestig deze aanvraag

Misschien heeft u dit item reeds aangevraagd. Selecteer a.u.b. Ok als u toch wilt doorgaan met deze aanvraag.

Gekoppelde data


<http://www.worldcat.org/oclc/4591321>
library:oclcnum"4591321"
library:placeOfPublication
library:placeOfPublication
owl:sameAs<info:oclcnum/4591321>
rdf:typeschema:Book
schema:about
schema:about
schema:about
<http://id.worldcat.org/fast/975578>
rdf:typeschema:Intangible
schema:name"Integrated circuits--Masks--Testing"@en
schema:name"Integrated circuits--Masks--Testing."@en
schema:about
schema:contributor
<http://viaf.org/viaf/145989280>
rdf:typeschema:Organization
schema:name"United States. National Bureau of Standards."
schema:contributor
schema:contributor
<http://viaf.org/viaf/154230733>
rdf:typeschema:Organization
schema:name"United States. Advanced Research Projects Agency."
schema:creator
schema:datePublished"1979"
schema:exampleOfWork<http://worldcat.org/entity/work/id/1953683205>
schema:inLanguage"en"
schema:name"A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment"@en
schema:numberOfPages"28"
schema:publisher
schema:publisher
schema:url

Content-negotiable representations

Venster sluiten

Meld u aan bij WorldCat 

Heeft u geen account? U kunt eenvoudig een nieuwe gratis account aanmaken.